应用于聚焦电子束的高亮度大尺寸石墨烯涂覆的冷场点发射源引言电子显微镜和光刻技术的冷场发射源存在几个长期存在的问题，例如它们固有的超高真空条件要求，电流稳定性相对较差以及发射衰减快，

应用于聚焦电子束的高亮度大尺寸石墨烯涂覆的冷场点发射源引言电子显微镜和光刻技术的冷场发射源存在几个长期存在的问题，例如它们固有的超高真空条件要求，电流稳定性相对较差以及发射衰减快，