做LCD行业，哪家的AC电源好。

【专家解说】：溅射镀膜一般都是用AE做的 AE电源 美国Advanced Energy（优仪）公司生产的大功率开关电源产品,因其高效率,高精密,大功率和高工艺制程的可控性,被广泛运用于现代工业镀膜行业中,是镀膜工艺中不可或缺的高科技电源产品,有直流,中频,射频等电源产品,使用的行业包括半导体晶圆、光磁存储媒体、太阳能、玻璃镀膜、平板显示器、装饰镀、工具镀钛、类金钢石镀膜等。AE电源有很多系列,每一个系列中都有很多型号,以适应不同的工业产品的需要.在直流产品系列中,AE电源的早期的MDX,MDXII,和后来的Pinnacle第一代,Pinnacle第二代以及Diamond系列,分别有8KW,10KW,15KW等不同的功率。 AE电源是工业电源的领航者，性能稳定，品质可靠。 优仪（Advanced Energy）半导体（上海）设备有限公司是优仪（Advanced Energy）公司中国地区唯一维修中心。提供专业，正规的维修。 产品型号： 电源系统 直流电源 低/中频系列 网络匹配器 射频系列 射频测量仪器 直流脉冲产品套件 PINNACLE 系列 Pinnacle Plus+ Pinnacle3000 Pinnacle Diamond™ MDX 系列 500 W MDX 系列 1 kW 与 1.5 kW ® PDX PEII 低频系列 LFGS RAS Crystal Navigator 数位字匹配系统网络 VarioMatch™ Paramount Apex HFV Cesar HiLight Integro Ovation GenCal 直流脉冲产品套件 AE 的脉冲产品系列具有各种功能，能够满足您所有的困难和各式各样的工艺要求。这个灵活的直流脉冲附件系列提供 10-200kW 的功率以及 2-100kHz 的固定和可变频率。这个系列的每一项产品在设计上均具有相当的特点，能够针对反应和直流溅射提供经证实的优势。 优势 特点 功能广泛 灵活的直流脉冲附件系列 通过允许在更大功率下运行，提高吞吐量 减少靶材污染 提高 10-200kW 的功率 提供 2-100kHz 的固定和可变频率 出色的弧控制——在很多情况下，弧完全被消除。 离子能量更高 更大功率运行 基材温度更低 靶材温度更低 工艺灵活性和宽容度 系统整合容易 双阴极功能（Astral® 产品） Pinnacle 系列 业界公认的 Pinnacle 直流电源平台具有绝佳的工艺一致性和控制功能，从而大大减少了工艺变化，提高了产量。这个紧凑、功能强大的套件提供了业界最低的存储能量、最快的弧反应以及最广的全功率运行阻抗范围。 优势 特点 最低的运行和安装成本 业界最快的弧反应时间 可配置的弧反应参数 最大的工艺效率 精确的工艺控制 最低的存储能量——每千瓦输出不到 1mJ 无需调节输出变压器 4:1的阻抗范围 靶材处理时间——最大限度地缩短新靶材的处理时间 ±0.1%的输出重复性 Joule 模式——最优化的能量传送 Pinnacle Plus+ Advanced Energy (AE) 的 Pinnacle Plus+ 电源为单体直流脉冲电源，为您的反应工艺提供脉冲直流电解决方案所有优点，包括使用简单、节约成本以及具有绝佳的灵活性。结合标准直流电技术和经过工艺证明的脉冲直流电技术，Pinnacle Plus+ 电源与复杂而昂贵的交流电解决方案相比，沉积率更高，重复性能更好，薄膜质量更为优异。 优势 特点 更高的沉积率与产品率 薄膜均匀性和品质一流 成弧造成的基材损坏减少 成本更低 系统整合容易 极佳的工艺灵活性和宽容度 重复性能 在过度曲线上运行稳定 吞吐量更高 便于监控 无与伦比的系统灵活性 一个紧凑型封装 频率调节范围为 5-350kHz 占空比高达45% 电压范围宽——单输出宽阻抗范围 大功率运行 基材温度低 单输出（5kW 和 10kW 型号） 用于双阴极生产的双输出（双路5kW 型号） 绝佳的弧控制 反应性溅射闭环控制 Pinnacle 3000 Advanced Energy 的 Pinnacle 3000 直流电源提供最高的效率和功率因素，从而带来业界最低的运行和安装成本。 Pinnacle 工艺一致性和控制带来的额外好处是使在正常溅射工艺和偏压应用中的工艺变化明显减少、产量提高。 优势 特点 经过证明的 Pinnacle 性能和可靠性 最大的工艺效率——最低的运行和安装成本 通用性——在溅射工艺和偏压应用上均表现出色 快速、可配置的弧反应——弧损伤少 精确的工艺控制 多种显示/控制选择 符合安全/辐射标准 业界最高的效率和功率因素 紧凑——在一个 2-U、1/2支架封装中，功率达 3000W 单输出抽头，疲惫范围广泛 Profibus 和 RS-232 串行通信 靶材处理时间——最大限度地缩短新靶材的处理时间 仅400 VAC 输入 存储能量低——每千瓦输出不到6 mJ 在大于15%的功率下，输出重复性为±0.1% Joule 模式——最优化的能量传送 对输出电平、击穿电压和工艺电压的可编程限制 储存设定自动保存 有 CE 标志 Pinnacle Diamond™ 在工艺和偏压应用中，Pinnacle Diamond™ 直流电源都能提供最高的效率和功率因素，从而带来业界最低的运行和安装成本。 Pinnacle 绝佳的工艺一致性和控制带来的额外益处是通过一个极其紧凑的部件大大减少了变化、提高了产量。 优势 特点 经过证明的 Pinnacle 性能和可靠性 最大的工艺效率——最低的运行和安装成本 通用性——在工艺和偏压应用上均表现出色 快速、可配置的弧反应——弧损伤少 众多显示/控制选项 精确的工艺控制 符合安全/辐射标准 业界最高的效率和功率因素 紧凑——在一个 3-U、1/2支架封装中，功率高达 15kW 单输出抽头，匹配范围广泛 Profibus 和 RS-232 串行通信 靶材处理时间——最大限度地缩短新靶材的处理时间 水冷式 仅400 VAC 输入 存储能量低——每千瓦输出不到6 mJ 在大于15%的功率下，输出重复性为±0.1% Joule 模式——最优化的能量传送 对输出电平、击穿电压和工艺电压的可编程限制 储存设定自动保存 有 CE 标志 MDX 系列500 W MDX 500 在真空环境中经久耐用，能够在磁控环境中对不同类型的弧进行多级抑制和灭弧。在基本磁控溅射、射频偏压直流溅射以及直流偏压射频溅射中表现一流。其小巧的尺寸使其非常适合于实验室系统和小规模的生产环境。 优势 特点 超载内置保护 可靠性和耐用性 快速反应时间 兼容性认证 多级弧抑制及灭弧 用户I/O接入 功率、电流或电压调节功能 MDX 系列1 kW 和1.5 kW MDX 系列1 kW 和1.5 kW 电源在真空环境中经久耐用，其小巧的尺寸使其成为实验室系统的理想解决方案。它们最常用作直流磁控溅射电源；在该领域，二者精密的调节性能、一流的灭弧功能和较低的存储输出能量使之成为业界领先产品。它们还在射频溅射和蚀刻系统中被用作精密调节的偏压电源。 优势 特点 针对标准 Z 和低 Z 应用的两种配置 高频开关电路从线路到负载的效率超过90% Arc-Out™ 抑制电路 常用作直流磁控溅射电源 尺寸小 输出纹波很低 可调节抑弧 E'Wave 双极脉冲直流电系列 Advanced Energy 的 E'Wave 双极脉冲直流电源改善了表面均匀性，减少了DDPF工艺流程 (dual-damascene process flow, DDPF) 应用的镀铜阶段之附加消耗，包括在生产环境和铜工艺开发中的晶圆电镀。E'Wave 电源提供多达三个通道，每个都有一个独立驱动的双极电源，能够生成、存储和运行多达15个由电流控制或由电压控制的波形。 优势 特点 绝佳的填隙 一流的表面均匀性 降低了附加消耗 强有力的监控 减少了无尘室空间要求 广泛的配置选择 通用波形形成 多达三个独立控制的通道 双极脉冲直流电输出，0-5kHz 高电流能力 四终端控制和晶圆的电压测量 主机接口 紧凑型封装 PDX 中频电源 PDX 系列小功率（1250和1400 W）及大功率（5000和8000 W）中频电源为各种广泛的工艺应用提供一种高效、紧凑、易于整合的电源。这些高度可靠的电源提高了工艺灵活性，提供广泛的运行频率范围以优化工艺控制，确保较高的工艺重复性，并提高了吞吐量。 PEII 低频系列 PEII 低频系列电源提供40 kHz 脉冲输出，具有增强的弧控制以及与高达60 kW 的输出功率，该系列电源具有极宽的匹配阻抗，无输出变压器等外部组合硬件，特别适用于反应溅射。 优点 功能 恒功率、电压或电流输出 最高的灵活性与模块性 强大的电弧控制 自动制程保护装置 极宽的祖抗匹配范围 高功率密度 5 kW 和 10 kW 选项（主/从 至多达到60 kW） 内部负载匹配（10:1 阻抗范围） 两种不同的弧处理电路 高效能、紧凑型水冷式设计 多种可选配件 符合 CE 标准 LFGS 射频发生器 LFGS 发生器是用于半导体生产和一般等离子处理的多功能射频发生器。此类可变频率发生器采用了一种半桥、D 类型放大器理念，拥有一种空冷式紧凑型的设计，可安装在19英寸机架上面。典型的应用包括溅射、等离子蚀刻、化学气象沉积、聚合以及表面处理。 优点 功能 可达到目前市场上可获得的最低反射功率 空冷式设计 多功能前面板 脉冲模式：0到 10kHz 更完善的操作功能表 2个模拟用户端口 RS-232 接口、以太网接口及 PROFIBUS 接口 RAS 冗余阳极溅射分流感应器 AE 的冗余阳极溅射 (RAS) 分流感应器消除了单靶材反应溅射工艺的阳极消失的问题，从而能够使此类系统接近直流溅射率。RAS 感应器新颖的设计中包括了两个阳极和一个阴极，从而便于对现有的系统进行改进。主要应用为配合PEII低频电源进行单靶磁控溅射。 优势 特点 消除了阳极消失的现象 便于对现有的单阴极系统进行改进 减小了系统的空间要求 能够实现高速率的介质反应溅射 确保了均匀的沉积率 促进电力的有效使用，简化维护 成本低于双阴极结构 几乎消除了弧 单阴极结构 自清洗双阳极 低频直流电源输入 基材偏压 便于改进的设计 Crystal Advanced Energy (AE) 的 Crystal 电源非常适用于大面积玻璃镀膜应用，如建筑玻璃、汽车玻璃、减反射镀膜和高反射镜等。更低的故障率，回报您更高的产量。这些电源的可用功率为 180kW,120KW,60KW。为双靶磁控溅射应用提供了更宽祖抗匹配的低频率正弦工艺电源。AE 的 Crystal 电源是唯一特别为等离子环境而设计拓扑结构的交流电大功率电源。 优势 特点 更灵活 产量更高 减少当机时间 吞吐量提高 宽阻抗匹配低频率正弦工艺电源 大功率电源——最大180kW 功率 专为等离子环境而设计 Navigator 数字阻抗匹配网络 Navigator 匹配网络提供在各种负载阻抗下进行快速、准确且可靠匹配的先进匹配技术。Navigator 匹配网络配备了由微处理器控制的步进电机电路和用户可选的数字调谐算法，通过自动调整耦合等离子的复阻抗，最大限度地减小反射功率。选择包括：用于实时测量和分析过程功率和阻抗的 Z’Scan® 射频传感器，以及能够通过一台个人计算机来监控并对匹配网络下达指令的虚拟前面板 (VFP) 软件。 优势 特点 加强了工艺控制 最大限度地减小反射功率 加速反应时间 有助于提高工具吞吐量和产量 数码匹配平台 多种数码调谐算法 实时过程功率和阻抗测量与分析 整合式仪器 简化的设计 严格的测试 基于 PC 的监控软件 VARIOMATCH™ 匹配网络 与 CESAR® 射频发生器相配套的是一个完整系列的 Variomatch™ 自动匹配网络。Variomatch 匹配网络覆盖了各种阻抗，而且方便用户进行现场配置。高度可靠的可变真空电容、固定感应器以及脉宽调制可控电机能给您带来针对您等离子应用的迅速、可重复的阻抗匹配。目前我们还提供针对感应应用的特殊型号产品。可变匹配操作在没有任何外部控制器的情况下可自动进行，但是也可通过 CESAR 射频发生器的前面板进行手动控制。 优点 功能 拥有更强的灵活性，可在更广的阻抗范围内进行功率匹配操作 Greater process productivity Easy integration and control 空冷式设计 可变真空电容器 多种匹配接头， 阻抗范围非常广 Automatic, manual, and pre-set modes Plug-and-play operation High-performing components Reliable connectors Wide impedance range Digitally controlled tuning with intelligent motor driver technology DC bias measurement circuit Paramount 射频功率输送系统 这款半机架的3kW 的 Paramount 射频 (RF) 功率输送系统拥有更强的功率和阻抗测量性能，能够在 13.56MHz 固定或可变频率、50欧姆和非50欧姆负载下（电压驻波比 (VSWR) 超过3:1），为您带来出色的输送功率精度和控制性能。能够与最突然变化的等离子阻抗保持实时同步，Paramount 射频功率输送系统能为新一代技术节点带来更快的转换速度、更少的制程步骤以及更短的制程时间。其阻抗测量精度可与网络分析仪的水平相媲美，而可选频率的调谐几乎可以瞬间实现（达到毫秒数量级），其速度较市场上的任何其它产品都快。从而实现真正卓越的精确性、可重复性和对制程的控制。 优点 特点 凭借卓越的功率输送精度，实现前所未有的薄膜均匀度与传送效能(throughput)的最优化 以更快的制程转换来支持新一代蚀刻与沉积制程 帮助实现无缝的制程转换 提高产量 实现投资回报最大化< 新一代测量系统能够在所有输出范围内（50欧姆和非50欧姆负载）对功率和阻抗进行极精确的测量 近乎瞬间的频率调谐（可选） 可选脉冲和同步脉冲的脉冲频率范围很宽广 可选的 HALO（高精确度、低输出）及弧管理系统 紧凑半机架型外观设计 Apex 射频供电系统 通用 Apex 系列射频电源和供电系统采用复杂的射频转换技术，在适合于真空室安装的模块化设计中提供增大的产品和工艺可靠性。Apex 平台在针对半导体、平板显示器或数据存储制造以等离子为基础的薄膜工艺中表现优异。 优势 特点 更高的功率密度 更好的工艺灵活性 产量提高 持有成本降低 简化工艺工具整合 灵活的通信 简化的设计 真空室安装、框架安装、支架安装和鞋盒式 (shoebox) 选择 宽带控制回路和可选的高重复率脉冲 业界领先的弧管理 符合监管要求 HFV 变频 (~2 MHz) 电源 灵活的 HFV 电源主要用作200和300 mm 晶圆制程、平板显示器和 DVD 设备的等离子发生器，为离子化物理气相沉积 (IPVD)、CVD 和蚀刻提供了工艺一致性。这种通用电源的特点有数字合成变频输出和微处理器控制，输出功率电平为3、5和8 kW。此外，其输出频率范围为1.765-2.165 MHz。固件上的频率调谐参数可进行定制，以确保在各种真空室结构和工艺方法下的可重复运行。 优势 特点 提高了 run-to-run 准确性 具有通用性 提高了可靠性 增强了工艺灵活性 降低了持有成本 可定制的频率调谐参数 输出频率范围为1.765-2.165 MHz 3、5和8 kW 的输出功率电平 数字合成频率输出 微处理器控制