低压甲烷等离子体发射光谱诊断

【摘要】：在CH4/He体系下,利用光学发射谱技术,对螺旋波放电产生低压甲烷等离子体内活性粒子的光学发射特征进行了原位测量。根据甲烷离解后产生的所有可能基、团的对称性、构造并分析了甲烷离解的所有可能反应通道,进一步证实了CH、Hα、Hβ以及Hγ等碎片粒子的存在。研究了各实验参量对活性基团CH、Hα、Hβ以及Hγ的发射谱强度的影响。结果表明:CH粒子发射光谱谱线相对强度随着射频功率的增大是先增大而后减小,随工作气压的增大而逐渐减小;随气压及功率的增加,Hα、Hβ以及Hγ相对强度变化的总体趋势都是先增加而后减小的。该结果为等离子体沉积各种薄膜过程的理解及制备工艺参数的调整提供了基础数据。 【作者单位】： 四川大学原子与分子物理研究所 中国工程物理研究院激光聚变研究中心 四川大学原子与分子物理研究所 中国工程物理研究院激光聚变研究中心 四川大学原子与分子物理研究所
【关键词】： 光学发射谱 甲烷等离子体 螺旋波放电
【基金】：中国工程物理研究院重大基金(No.2052)
【分类号】：O621.2
【正文快照】： 碳氢薄膜自1971年被报道以来[1],由于其具有优异的物理和化学性质,一直受到人们的青睐,并对它作了不少的研究。制备碳氢薄膜的方法很多,如离子束辅助沉积[2]、离子溅射沉积[3]、等离子体化学气相沉积[4]等等,而低压等离子体化学气相沉积(LPP-CVD)是许多薄膜生长的主要方法。

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