连续快速常压化学气相沉积法制备TiO_2自清洁镀膜玻璃

【摘要】：以四异丙醇钛(TTIP)为先驱体,采用常压化学气相沉积(APCVD)法模拟镀膜工艺过程,制备出了TiO2自清洁镀膜玻璃。通过扫描电镜(SEM)、X射线衍射(XRD)、紫外-可见透射光谱(UV-Vis)等手段对样品进行分析,并研究了基板温度和移动速率与薄膜性能之间的关系。结果表明,当基板温度升高至580℃时,能够形成平整致密的薄膜,薄膜的结晶度,光催化性能和亲水性能也达到最好;基板移动速度下降到1.5 m/min时,薄膜的结晶度,光催化性和亲水性也可得到改善。依据光催化性能和亲水性能测试,表明沉积TiO2薄膜的最佳条件为基板温度58O℃,基板速度1.5 m/min。 【作者单位】： 浙江大学材料科学与工程学系 浙江大学材料科学与工程学系 浙江大学材料科学与工程学系 浙江大学材料科学与工程学系 浙江大学材料科学与工程学系 浙江大学材料科学与工程学系
【关键词】： TiO 常压化学气相沉积 自清洁 镀膜玻璃
【分类号】：TQ171.7
【正文快照】： ~~连续快速常压化学气相沉积法制备TiO_2自清洁镀膜玻璃@翁伟浩$浙江大学材料科学与工程学系!杭州310027 @宋晨路$浙江大学材料科学与工程学系!杭州310027 @翁文剑$浙江大学材料科学与工程学系!杭州310027 @刘军波$浙江大学材料科学与工程学系!杭州310027 @

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