首页 > 88必威

SiNX/SiO2/Si的双层膜太阳能电池研究

来源:论文学术网
时间:2024-08-18 14:56:28
热度:

SiNX/SiO2/Si的双层膜太阳能电池研究【摘要】:采用热氧化法制备二氧化硅减反射膜,采用PECVD制备氮化硅减反射膜,对双层薄膜带来的钝化效果进行了表征,对比了SiNX/Si

【摘要】:采用热氧化法制备二氧化硅减反射膜,采用PECVD制备氮化硅减反射膜,对双层薄膜带来的钝化效果进行了表征,对比了SiNX/SiO2双层减反膜和SiNX单层减反膜的区别,并研究了不同氧化工艺对扩散方阻的影响,双层减反射膜对晶硅太阳能电池的影响。结果表明:使用双层SiNX/SiO2减反膜的钝化效果更好,晶硅电池转化效率更高。 【作者单位】: 西安黄河光伏科技股份有限公司;
【关键词】晶硅太阳能电池 二氧化硅 氮化硅 减反射膜
【分类号】:TM914.4
【正文快照】: 0前言硅棒硅锭切片后,晶体硅片的表面缺陷密度很高,具有大量悬挂键、杂质和断键,导致硅片表面复合严重,少子寿命大大降低。目前,太阳能电池片制造通常使用PECVD在硅片表面反应沉积SiNX:H薄膜,起到钝化和减反射作用,但SiNX/Si界面的晶格失配严重,会有较大的界面复合,其钝化性质

您可以在本站搜索以下学术论文文献来了解更多相关内容

氮化硅陶瓷表面的镀膜方法    姜柯

氮化硅抗反射膜MIS/IL型硅太阳电池    焦凯立,郭维廉

氮化硅超细粉钴磷合金镀层的制备    张慧泽,刘涛,王幼文,凌国平,郦剑

电热水器的新世代——美的微波/氮化硅电热水器    微岩

氮化硅薄膜对晶体硅材料和电池的钝化效果研究    龚灿锋;杨德仁;王晓泉;席珍强;汪雷;阙端麟;

镍基Si_3N_4复合镀层的摩擦磨损特性    于爱兵;韩廷水;韩鹰;

低温等离子体淀积氢化氮化硅    汪树成

从“被动防电”到“主动防电”——美的电热水器迈向“绝对安全时代”    桂凌;

氮化硅抗反射膜MIS/IL硅太阳电池光辐照不稳定性的实验研究    程玉华,毛赣如,郭维廉

多晶硅太阳电池的氮化硅钝化    杨宏,王鹤,陈光德,于化丛,奚建平

氮化硅在太阳电池上的应用    衡阳;许颖;莫春东;于金珍;桑识宇;李仲明;

PECVD法制备氮化硅减反射膜研究    王晓泉;汪雷;席珍强;杨德仁;

高导热铝基板用导热绝缘胶的制备    刘传超;韩志慧;李桢林;范和平;

基于CPW的MEMS开关的有限元分析    于成;张沛玲;仲顺安;

薄膜电容的FDTD分析及参数提取    褚庆昕;倪慧娟;孙先花;高学邦;

统计制程控制在硅太阳能制造中的应用    高传楼;

太阳电池烧穿工艺对氮化硅薄膜的光学性质的影响    周之斌;赵占霞;陈凤祥;古丽娜;孟凡英;崔容强;

磁控溅射氮化硅薄膜的特性及其在太阳电池上的应用    衡阳;许颖;李仲明;于元;

15MW薄膜硅太阳电池生产线新进展    Jerry Culik;SOjan Abraham;Gretchen Addison;Kevin Allison;Frank Faller;

铝合金上Ni-Co-P/Si_3N_4镀层的化学复合镀制备初探    胡佳;方亮;钟佩文;刘平;匡国文;毛彩英;罗方清;杨世银;秦玉鹏;

低成本衬底上晶体硅薄膜太阳电池的研究    励旭东

磁控溅射制备氮化硅薄膜特性研究    贾晓昀

硅太阳能电池背表面钝化研究    周国华

不同气氛下C-Si系复合材料的制备机理及性能    易成雄

多晶硅太阳电池关键技术研究    杜忠明

晶体硅太阳电池表面钝化技术的研究    郑雪

太阳电池正面电极用无铅玻璃料的制备与表征    麦成乐

太阳能电池用硅量子点的制备与表征    张笑

基于等效介质近似模型抗反射涂层的研究    张军

Baidu
map