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清洗高洁净度设备工程技术——以多晶硅工艺设备清洁为例

来源:论文学术网
时间:2024-08-18 14:55:37
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清洗高洁净度设备工程技术——以多晶硅工艺设备清洁为例【摘要】:在电子制造及其它一些高新技术行业,对设备的洁净度要求都非常高;以多晶硅提纯装置的清洁工程为实例,阐述了高洁净度设备清洗

【摘要】:在电子制造及其它一些高新技术行业,对设备的洁净度要求都非常高;以多晶硅提纯装置的清洁工程为实例,阐述了高洁净度设备清洗系统的工艺流程与操作方法。 【作者单位】: 南京市住建委;中建工业设备安装公司;
【关键词】清洗 循环 浸泡 擦拭 纯水冲洗 干燥
【分类号】:X38
【正文快照】: 1工程概况多晶硅生产装置具有化工、冶金、电子三个行业的特点,工艺系统要求无油、无水、无尘、无泄露,是一个工艺复杂、设备种类众多、对洁净度有很高要求的硅提纯系统。本清洗工艺适用于多晶硅生产装置中的塔器、容器、反应器、换热器、还原炉以及泵类设备的清洗,并适用于

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