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TiN节能镀膜玻璃的APCVD法制备及热处理工艺研究

来源:论文学术网
时间:2024-08-20 12:08:46
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TiN节能镀膜玻璃的APCVD法制备及热处理工艺研究【摘要】:当前能源危机日益严重,具有优异节能效果的高效节能镀膜玻璃引起了广泛研究兴趣。但该玻璃目前大部分是多层复合结构,主要采用

【摘要】:当前能源危机日益严重,具有优异节能效果的高效节能镀膜玻璃引起了广泛研究兴趣。但该玻璃目前大部分是多层复合结构,主要采用离线镀膜技术,不利于普遍使用。本论文尝试以常压化学气相沉积法,在玻璃片上沉积TiN薄膜,旨在研制能够与浮法玻璃生产线兼容的单层高效节能薄膜。 以TiCl4和NH3为反应物,以N2为保护气,用常压化学气相沉积法在玻璃基板上沉积TiN薄膜。运用XRD、EDX、SEM和UV-Vis分光光度计等测试手段,研究了制备参数(沉积温度、时间和冷却方式)和热处理参数(热处理温度、时间和气氛)对薄膜化学成分、形貌和光电性能的影响,以调整其低辐射和阳光控制功能。 研究发现TiN薄膜的成膜温度高于500℃,沉积时间大于1 min时开始出现结晶,且表现出(200)晶面取向生长。升高沉积温度、延长沉积时间和真空冷却都能改善结晶性能,降低N/Ti,改善导电性,提高平均中远红外反射率,即增强低辐射功能。而适中的沉积温度、长反应时间和氮气冷却能提高薄膜阳光控制功能。当沉积温度在600℃,沉积时间为90s,氮气冷却时薄膜能较好综合低辐射功能和阳光控制功能:平均中远红外反射率为55%,平均近红外反射率达到60%左右,可见光透过率为8%左右。此外,还发现高温和长时间反应会降低可见光反射率,这对解决节能镀膜玻璃应用上存在的光污染问题具有重要意义。 为了进一步改善薄膜光电性能,本研究对TiN薄膜进行热处理,结果显示:热处理后薄膜的结晶性能得到改善,N含量减少,晶格常数减小,应力和缺陷得到改善,导电性能变好,平均中远红外反射率从50%几增加到70%以上,平均近红外反射率从25%左右增大到37%。这说明热处理工艺能够加强薄膜的低辐射功能和阳光控制功能,使得薄膜更好的兼具保温和隔热。但是热处理温度和时间进一步增加,部分TiN被氧化,薄膜的各项性能变差。 【关键词】:TiN 常压化学气相沉积法 热处理 阳光控制 低辐射
【学位授予单位】:浙江大学
【学位级别】:硕士
【学位授予年份】:2011
【分类号】:TN304.055
【目录】:
  • 摘要5-6
  • Abstract6-11
  • 第一章 绪论11-27
  • 1.1 引言11-12
  • 1.2 节能镀膜玻璃的研究概况12-18
  • 1.2.1 节能原理12-14
  • 1.2.2 主要性能指标14-17
  • 1.2.3 分类17-18
  • 1.3 镀膜技术简介18-21
  • 1.3.1 真空蒸发法18-19
  • 1.3.2 电浮法19
  • 1.3.3 溅射法19-20
  • 1.3.4 凝胶浸镀法20
  • 1.3.5 化学气相沉积法20-21
  • 1.3.6 喷涂法21
  • 1.4 TiN薄膜的研究现状21-25
  • 1.4.1 晶体结构21-23
  • 1.4.2 化学计量比研究状况23-24
  • 1.4.3 机械性能和物理性能24
  • 1.4.4 应用研究现状24-25
  • 1.5 课题提出及研究意义25-27
  • 第二章 实验部分27-33
  • 2.1 样品制备27-31
  • 2.1.1 实验设备及原料27-29
  • 2.1.1.1 实验设备27-29
  • 2.1.1.2 实验原料29
  • 2.1.2 实验步骤29-30
  • 2.1.2.1 载玻片预处理29
  • 2.1.2.2 TiN薄膜沉积步骤29-30
  • 2.1.2.3 TiN薄膜热处理步骤30
  • 2.1.3 样品的系列沉积参数30-31
  • 2.2 样品的测试与分析手段31-33
  • 2.2.1 X射线衍射仪31
  • 2.2.2 薄膜亲水性测试31
  • 2.2.3 场发射扫描电镜31-32
  • 2.2.4 X射线能量散射谱32
  • 2.2.5 UV/Vis分光光度计32
  • 2.2.6 四探针电阻测试仪32-33
  • 第三章 制备参数对薄膜成分、结构和光电性能的影响33-59
  • 3.1 沉积温度对薄膜成分、结构和光电性能的影响33-42
  • 3.1.1 沉积温度对薄膜成分、形貌和结构的影响33-39
  • 3.1.2 沉积温度对薄膜的导电性和光学性能的影响39-42
  • 3.2 沉积时间对薄膜成分、结构和光电性能的影响42-51
  • 3.2.1 沉积时间对薄膜成分、形貌和结构的影响42-48
  • 3.2.2 沉积时间对薄膜的导电性和光学性能的影响48-51
  • 3.3 冷却方式对薄膜成分、结构和光电性能的影响51-55
  • 3.3.1 冷却方式对薄膜成分、形貌和结构的影响51-53
  • 3.3.2 冷却方式对薄膜的导电性和光学性能的影响53-55
  • 3.4 小结55-59
  • 第四章 热处理工艺对对薄膜成分、形貌和光电性能的影响59-87
  • 4.1 热处理温度对薄膜成分、结构和光电性能的影响59-69
  • 4.1.1 热处理温度对薄膜成分、形貌和结构的影响59-66
  • 4.1.2 热处理温度对薄膜导电性和光学性能的影响66-69
  • 4.2 热处理时间对薄膜成分、结构和光电性能的影响69-79
  • 4.2.1 热处理时间对薄膜成分、形貌和结构的影响70-76
  • 4.2.2 热处理时间对薄膜导电性和光学性能的影响76-79
  • 4.3 热处理气氛对薄膜成分、结构和光电性能的影响79-84
  • 4.3.1 热处理气氛对薄膜成分、形貌和结构的影响79-83
  • 4.3.2 热处理气氛对薄膜导电性和光学性能的影响83-84
  • 4.4 小结84-87
  • 第五章 结论87-89
  • 参考文献89-93
  • 致谢93-94
  • 个人简历94-95
  • 攻读学位期间发表的学术论文与取得的其他研究成果95


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