太阳能单晶硅生长前的化学清洗

【摘要】：用中性的化学清洗剂取代硝酸/氢氟酸混合液清洗硅料。清洗原理及测试结果。 【作者单位】：云南半导体器件厂 云南半导体器件厂 云南半导体器件厂
【关键词】：化学清洗 统计推断
【分类号】：TM911
【正文快照】： l 概述 由于硅的化学性质较为稳定,在常温下的氧化速度较慢。在一般条件下,硅对浓或稀的硝酸、硫酸、盐酸都较稳定,和氢氟酸也不发生反应。但硅对硝酸和氢氟酸的混合液发生反应井使硅溶解。其反应式如下: Si+4HNO;一h;+2H10+4N0;I(l) Sic。+6HF一H;[SIF。]+ZH。0+Q(2) 在上述

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