LPCVD技术制备的BZO薄膜及其在非晶硅薄膜太阳能电池中的应用
LPCVD技术制备的BZO薄膜及其在非晶硅薄膜太阳能电池中的应用【摘要】:ZnO是一种N型宽带直接带隙半导体材料,室温下禁带宽度为3.37eV,有优异的压电、光电、压敏等特性,且电
【学位授予单位】:南昌大学
【学位级别】:硕士
【学位授予年份】:2015
【分类号】:O646.54;TM914.4
【目录】:
- 摘要3-5
- Abstract5-9
- 第1章 绪论9-17
- 1.1 前言9-10
- 1.2 ZnO概述10-13
- 1.2.1 ZnO的基本性质10-11
- 1.2.2 ZnO光学特性11-12
- 1.2.3 ZnO的电学特性12-13
- 1.2.4 ZnO的压电气敏特性13
- 1.3 ZnO-TCO的研究现状及其制备技术13-16
- 1.3.1 TCO透明导电氧化物的研究现状13-14
- 1.3.2 ZnO-TCO薄膜的制备主流技术14-16
- 1.4 论文的主要内容和结构安排16-17
- 第2章 实验方法和分析测试技术17-25
- 2.1 LPCVD设备系统组成及原理17-18
- 2.2 实验设备及工作原理18-21
- 2.2.1 实验设备18-20
- 2.2.2 LPCVD-BZO薄膜的生长机理20-21
- 2.3 BZO薄膜的表征21-25
- 2.3.1 扫描电子显微镜(SEM)21-22
- 2.3.2 霍尔测试(Hall)22-23
- 2.3.3 Perkin-Elmer 750分光光度计23-24
- 2.3.4 电流一电压(I-V)测试24-25
- 第3章 LPCVD沉积制备BZO透明导电薄膜及其性能的研究25-43
- 3.1 引言25
- 3.2 沉积时间对ZnO薄膜特性的影响25-31
- 3.2.1 微观形貌26-27
- 3.2.2 导电性能27-28
- 3.2.3 光学减反性能28-30
- 3.2.4 本节总结30-31
- 3.3 不同B_2H_6掺杂流量对ZnO薄膜特性的影响31-36
- 3.3.1 微观形貌31-32
- 3.3.2 光学和电学性能32-35
- 3.3.3 本节总结35-36
- 3.4 不同条件下退火对BZO薄膜特性的影响36-43
- 3.4.1 不同退火时间对BZO薄膜光学电学性能的影响37-39
- 3.4.2 不同退火温度对BZO薄膜光学电学性能的影响39-40
- 3.4.3 不同退火气氛对BZO薄膜光学电学性能的影响40-42
- 3.4.4 本节总结42-43
- 第4章 LPCVD法在不同衬底上制备ZnO:B薄膜及电池性能的研究43-56
- 4.1 引言43
- 4.2 PI衬底柔性透明硅薄膜太阳能电池的制备及性能43-49
- 4.2.1 BZO薄膜的微观形貌45
- 4.2.2 BZO薄膜的透光性能45-46
- 4.2.3 BZO薄膜的电学性能46-47
- 4.2.4 PI衬底a-Si:H薄膜太阳能电池性能47-48
- 4.2.5 本节小结48-49
- 4.3 柔性玻璃衬底ZnO:B薄膜的制备及电池性能的研究49-56
- 4.3.1 实验条件49-50
- 4.3.2 BZO薄膜的微观形貌50
- 4.3.3 BZO薄膜的光学性能和电学性能50-52
- 4.3.4 性玻璃衬a-Si:H薄膜太阳能电池性能52-55
- 4.3.5 本节小结55-56
- 第5章 总结56-58
- 致谢58-59
- 参考文献59-65
- 攻读学位期间的研究成果65
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