首页 > 88必威

LPCVD技术制备的BZO薄膜及其在非晶硅薄膜太阳能电池中的应用

来源:论文学术网
时间:2024-08-18 21:36:41
热度:

LPCVD技术制备的BZO薄膜及其在非晶硅薄膜太阳能电池中的应用【摘要】:ZnO是一种N型宽带直接带隙半导体材料,室温下禁带宽度为3.37eV,有优异的压电、光电、压敏等特性,且电

【摘要】:ZnO是一种N型宽带直接带隙半导体材料,室温下禁带宽度为3.37eV,有优异的压电、光电、压敏等特性,且电导率和透过率高,具有和ITO相媲美的电学、光学性能,原材料丰富且无毒,这使得ZnO薄膜能应用于平板显示器电极、气体传感器、太阳能电池等方面,并引起了广泛的关注和研究。为了优化ZnO的综合性能,加快其产业化,应用到太阳能电池中以提高其效率和稳定性,本文主要利用低压化学气相沉积技术(LPCVD),分别在玻璃、单晶硅及柔性衬底上制备出了具有陷光结构的ZnO:B薄膜前电极,并成功的应用于非晶硅薄膜柔性太阳电池。首先,利用LPCVD技术沉积制备ZnO:B薄膜(即BZO薄膜),分别讨论了沉积时间、硼烷掺杂流量、退火条件对BZO薄膜的结晶状态、微观结构、电学和光学等物理性质及性能的影响。其中,沉积时间决定了BZO薄膜厚度以及晶面取向生长,影响BZO薄膜的表面形貌和晶粒大小;B的掺入也会改变薄膜的生长特性,改变晶面生长的取向温度,展宽光学带隙,同时,还可以有效地降低薄膜的电阻率,有助于提高薄膜的电学稳定性;通过特定工艺条件退火后的薄膜的电学和光学性能得到了很大改善。实验结果表明:沉积时间为420s、硼烷掺杂量为50sccm、DEZ/H2O为450/150时,可生长出高质量的具有“绒面结构”BZO薄膜,再通过H2还原气氛200℃条件下退火30min可以大大的改善其电学性能。其次,在BZO薄膜基本工艺条件实验的基础上,本文利用传统的硅薄膜太阳能电池生产研发设备制备出非晶硅薄膜太阳能电池及组件,以探究制备柔性透明太阳能电池的工艺方案。将ZnO:B替代ITO用于非晶硅薄膜太阳电池,作为窗口透明电极和背电极,利用PECVD设备分别在PI和柔性玻璃衬底上沉积非晶硅薄膜,并用RD LSS激光设备划分绝缘制备非晶硅薄膜太阳能电池。通过测试J-V,可得PI衬底电池的开路电压Voc、短路电池Isc、转换效率(Eff)和填充因子(FF)分别为0.799V、12.82mA、5.10%和49.80%,表现出良好的透光性能;柔性玻璃衬底电池开路电压Voc、短路电池Isc、转换效率(Eff.)和填充因子(FF)分别为41.17V、478.1mA、9.16%和68.3%,具有优良的电学性能。 【关键词】:ZnO薄膜 低压化学气相沉积技术 透明导电氧化物 B掺杂ZnO 非晶硅 柔性透明太阳能电池
【学位授予单位】:南昌大学
【学位级别】:硕士
【学位授予年份】:2015
【分类号】:O646.54;TM914.4
【目录】:
  • 摘要3-5
  • Abstract5-9
  • 第1章 绪论9-17
  • 1.1 前言9-10
  • 1.2 ZnO概述10-13
  • 1.2.1 ZnO的基本性质10-11
  • 1.2.2 ZnO光学特性11-12
  • 1.2.3 ZnO的电学特性12-13
  • 1.2.4 ZnO的压电气敏特性13
  • 1.3 ZnO-TCO的研究现状及其制备技术13-16
  • 1.3.1 TCO透明导电氧化物的研究现状13-14
  • 1.3.2 ZnO-TCO薄膜的制备主流技术14-16
  • 1.4 论文的主要内容和结构安排16-17
  • 第2章 实验方法和分析测试技术17-25
  • 2.1 LPCVD设备系统组成及原理17-18
  • 2.2 实验设备及工作原理18-21
  • 2.2.1 实验设备18-20
  • 2.2.2 LPCVD-BZO薄膜的生长机理20-21
  • 2.3 BZO薄膜的表征21-25
  • 2.3.1 扫描电子显微镜(SEM)21-22
  • 2.3.2 霍尔测试(Hall)22-23
  • 2.3.3 Perkin-Elmer 750分光光度计23-24
  • 2.3.4 电流一电压(I-V)测试24-25
  • 第3章 LPCVD沉积制备BZO透明导电薄膜及其性能的研究25-43
  • 3.1 引言25
  • 3.2 沉积时间对ZnO薄膜特性的影响25-31
  • 3.2.1 微观形貌26-27
  • 3.2.2 导电性能27-28
  • 3.2.3 光学减反性能28-30
  • 3.2.4 本节总结30-31
  • 3.3 不同B_2H_6掺杂流量对ZnO薄膜特性的影响31-36
  • 3.3.1 微观形貌31-32
  • 3.3.2 光学和电学性能32-35
  • 3.3.3 本节总结35-36
  • 3.4 不同条件下退火对BZO薄膜特性的影响36-43
  • 3.4.1 不同退火时间对BZO薄膜光学电学性能的影响37-39
  • 3.4.2 不同退火温度对BZO薄膜光学电学性能的影响39-40
  • 3.4.3 不同退火气氛对BZO薄膜光学电学性能的影响40-42
  • 3.4.4 本节总结42-43
  • 第4章 LPCVD法在不同衬底上制备ZnO:B薄膜及电池性能的研究43-56
  • 4.1 引言43
  • 4.2 PI衬底柔性透明硅薄膜太阳能电池的制备及性能43-49
  • 4.2.1 BZO薄膜的微观形貌45
  • 4.2.2 BZO薄膜的透光性能45-46
  • 4.2.3 BZO薄膜的电学性能46-47
  • 4.2.4 PI衬底a-Si:H薄膜太阳能电池性能47-48
  • 4.2.5 本节小结48-49
  • 4.3 柔性玻璃衬底ZnO:B薄膜的制备及电池性能的研究49-56
  • 4.3.1 实验条件49-50
  • 4.3.2 BZO薄膜的微观形貌50
  • 4.3.3 BZO薄膜的光学性能和电学性能50-52
  • 4.3.4 性玻璃衬a-Si:H薄膜太阳能电池性能52-55
  • 4.3.5 本节小结55-56
  • 第5章 总结56-58
  • 致谢58-59
  • 参考文献59-65
  • 攻读学位期间的研究成果65


您可以在本站搜索以下学术论文文献来了解更多相关内容

范德堡方法在ZnO薄膜测试中的应用    朱俊杰,刘磁辉,林碧霞,谢家纯,傅竹西

变温霍尔效应测量浅掺杂n型锗半导体薄膜的电学特性    王春安;闫俊虎;

大面积柔性硅基薄膜电池集成串联组件    陈亮;马宁华;杨君坤;叶晓军;陈臻纯;

功率和退火对磁控溅射生长ZnO∶Ga薄膜的影响    李霞;陈凌翔;吕建国;叶志镇;

PI衬底柔性透明硅薄膜太阳能电池的制备及性能    李旺;朱登华;刘石勇;刘路;王仕鹏;黄海燕;牛新伟;陆川;杜国平;

变温霍尔效应测量n型锗半导体薄膜禁带宽度    符斯列;王春安;陈俊芳;

基于柔性玻璃衬底ZnO∶B薄膜的非晶硅太阳能电池的制备及其光电性能研究    李旺;朱登华;刘石勇;刘路;王仕鹏;黄海燕;杨德仁;牛新伟;杜国平;

PI衬底n-i-p结构非晶硅薄膜太阳能电池的制备    李旺;刘石勇;刘路;王仕鹏;黄海燕;牛新伟;陆川;

溶胶凝胶法制备钼掺杂氧化锌薄膜及性质研究(英文)    邵景珍;董伟伟;陶汝华;邓赞红;周曙;方晓东;

Ga掺杂ZnO透明导电薄膜的制备与特性研究    吴芳

脉冲激光沉积法外延生长大面积AlN单晶薄膜及其生长机理研究    杨慧

基于MOCVD-ZnO:B前电极的pin型超薄非晶硅太阳电池的初步研究    王利

可高效利用太阳光谱的ZnO透明导电薄膜研究    王延峰

Y型TiO_2纳米管在染料敏化太阳电池中的应用研究    杨旭

ZnO基纳米稀磁半导体及CdS纳米半导体的制备与性能研究    武晓娟

CuInS_2薄膜的低温合成及表征    李洪伟

一种简易硫化亚锡微米棒薄膜的合成    杜元宝

MOCVD技术制备的BZO薄膜及其在太阳电池中的应用    孙小虎

ZnO基薄膜及其紫外光电探测器的制备和特性研究    赵亚军

化合物薄膜太阳电池若干问题研究    霍晓旭

异质结N-ZAO/P-金刚石薄膜电致发光性能研究    杨灿

磁控溅射法制备CIGS薄膜光伏电池Mo背电极的研究    沈晓月

LPCVD-Si_3N_4工艺及性能研究    韩爽;胡海峰;蒋凯辉;杜海生;

低压化学蒸气淀积(LPCVD)反应器的模拟和分析    朱开宏,陈良恒,袁渭康

Si(001)衬底上方形3C-SiC岛的LPCVD生长    孙国胜,罗木昌,王雷,朱世荣,李晋闽,林兰英

用LPCVD法制备TiO_2薄膜光催化降解苯酚溶液    张建明;

LPCVD水解法制备TiO_2薄膜    李文漪,李刚,蔡峋,孙彦平,赵君芙

LPCVD法制备SiC-MoSi_2涂层的形貌及沉积机理研究    何子博;李贺军;史小红;付前刚;吴恒;

Ti_(1-x)Al_xN涂层LPCVD过程模拟中的热力学计算    王少卿;陈响明;杜勇;王社权;

LPCVD氮化硅薄膜的化学组成    葛其明;刘学建;黄智勇;黄莉萍;

    

LPCVD in-situ Growth of Silicon Quantum Dots in Si_3N_4    胡淑芬;

LPCVD制备微晶硅薄膜及热处理工艺研究    袁媛;耿学文;李美成;

不同牺牲层材料上LPCVD氮化硅薄膜内应力的测试与研究    王莎莎;陈兢;张海霞;

LPCVD多晶硅薄膜制备技术    吴嘉丽;李仁锋;谭刚;李红;

LPCVD直接生长纳米硅镶嵌氮化硅复合膜及力学性能研究    陈大鹏;叶甜春;谢常青;李兵;赵铃莉;韩敬东;胥兴才;

LPCVD多晶硅薄膜制备技术    吴嘉丽;李仁锋;谭刚;李红;

LPCVD氮化硅炉管生产工艺中颗粒污染的研究    任瑞龙

用LPCVD法在硅衬底上生长3C-Sic    陈雪萌

低压化学气相沉积模型与模拟    徐大为

研究和降低垂直型LPCVD制备氮化硅膜的微粒污染    罗浚涛

a-Si_(1-x)C_x:H薄膜的热壁LPCVD制备与结构特性研究    简红彬

纳米多晶Si薄膜的热壁LPCVD淀积与结构特性研究    马蕾

LPCVD法制备纳米Ti0_2薄膜的环境可持续性研究    朱南京

LPCVD技术制备的BZO薄膜及其在非晶硅薄膜太阳能电池中的应用    朱登华

Baidu
map