四氟甲烷的合成与开发

【摘要】：介绍了四氟甲烷的性质、用途,叙述了烷烃直接氟化法、氟氯甲烷氟化法、氢氟甲烷氟化法和氟碳直接合成法等制备四氟甲烷的方法,并以具体实例说明。认为应进一步开发氢氟烃直接氟化法和氟碳直接合成法工艺,使其早日实现工业化生产。 【作者单位】： 浙江衢化氟化学有限公司 浙江衢化氟化学有限公司
【关键词】： 四氟甲烷 全氟烷烃 合成
【分类号】：TQ222.213
【正文快照】： 四氟甲烷(CF4)是目前微电子工业中用量最大的等离子蚀刻气体,广泛用于硅、二氧化硅、氮化硅和磷硅玻璃等材料的蚀刻,在电子器件表面清洗、太阳能电池的生产、激光技术、低温制冷、气体绝缘、泄漏检测剂、控制宇宙火箭姿态、印刷电路生产中的去污剂、润滑剂及制动液等方面也有

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