温度对高甲烷含量下直流热阴极PCVD法制备纳米金刚石膜的影响

【摘要】：采用直流热阴极等离子体化学气相沉积(PCVD)技术,在CH4,H2流量分别为6sccm和200sccm,反应室气压为6×103 Pa时,通过改变基底温度,制备金刚石膜.采用拉曼光谱仪、扫描电镜和X射线衍射分析仪对样品进行表征.结果表明:利用直流热阴极PCVD方法,在较高的甲烷含量、较低的反应室气压及较低的基底温度下,可以制备出质量较好的纳米金刚石膜,随着基底温度的降低,晶粒尺寸减小,非金刚石相增多,膜的质量下降. 【作者单位】： 牡丹江师范学院黑龙江省新型炭基功能与超硬材料重点实验室;
【关键词】： 直流热阴极 PCVD 纳米金刚石膜
【基金】：黑龙江省研究生创新科研项目(YJSCX2011-301HLJ)
【分类号】：O484.1
【正文快照】： 纳米金刚石膜不但具有多晶金刚石膜优异的物理化学特性,而且具有极其光滑的表面,比微米金刚石膜更低的摩擦系数,与重掺杂微米金刚石一样好的导电性,比微米金刚石膜更为优异的发射性能,因此,纳米金刚石膜在摩擦磨损、光学层、场发射、MEMS和电化学等许多领域比微米金刚石膜具

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