MPCVD中甲烷等离子体发射光谱研究

【摘要】：在微波化学气相沉积装置上采用微波激发氢气甲烷体系等离子体,通过光学多道分析仪采集等离子的发射光谱。实验表明,甲烷在等离子体中的裂解产物主要以CH,CH?,C2基团的形式存在。这些基团的发射光谱强度主要受放电压强和放电功率的影响。随着微波功率的增加甲烷基团发射光谱强度呈增长的趋势;而随着放电压强的增加则是先增大,后减小。这些实验结果对于理解微波等离子体化学气相沉积(MPCVD)中各种反应过程,调整薄膜制备工艺提供了参考。 【作者单位】： 广州大学物理与电子工程学院;
【关键词】： MPCVD 发射光谱 甲烷等离子体 光谱强度
【分类号】：TN304.055;O539
【正文快照】： 1引言近年来,低气压低温微波放电已经被广泛应用于等离子体镀膜、刻蚀和表面清洗等方面。其中一个很重要的应用领域便是微波等离子体化学气相沉积(MPCVD)。为了更好的理解微波放电等离子体中的反应过程,通过对MPCVD过程中等离子体发射光谱的分析[1~6]来研究微波放电过程中的

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