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靠政府补助和投资中芯国际,中微公司去年净利爆增161%

来源:环保设备网
时间:2021-02-25 16:05:01
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靠政府补助和投资中芯国际,中微公司去年净利爆增161%2月24日,科创板中微公司(688012.SH)发布2020年度业绩快报称,去年,公司实现营业收22.7亿元,同比增长16.7

2月24日,科创板中微公司(688012.SH)发布2020年度业绩快报称,去年,公司实现营业收22.7亿元,同比增长16.76%;归属于母公司所有者的净利润4.92亿元,较上年同期增长161.02%。

但扣除非经常性损益后,中微公司所获得的归属于母公司所有者的净利润只有2331.94万元,较2019年同期减少84.19%。

图片来源:中微公司2020年年度业绩快报

中微公司坦言,公司2020年计入非经常性损益的政府补助较2019年增加约2.26亿元。同时,该公司2020年因实施股权激励计划产生股份支付费用约1.24亿元(属于经常性损益),而2019年无该类费用发生。

对于业绩情况,中微公司还表示,2020年,受益于半导体设备市场发展及公司产品竞争优势,公司2020年刻蚀设备收入12.89亿元,同比增长约58.49%;但由于市场原因,公司2020年MOCVD设备收入为4.96亿元,同比下降约34.47%。

同时,该公司2020年投资青岛聚源芯星股权投资合伙企业(简称“聚源芯星”)3亿元而间接持有中芯国际(688981.SH,00981.HK)的科创板股票,因中芯国际股价变动导致公司产生公允价值变动收益约2.62亿元。

此外,去年2.26亿元的政府补助,对中微公司同样重要。进入2021年,该公司继续已经收获两笔政府补助。1月28日,公司披露,已经累计获得政府补助款项共计12180.11万元;2月23日,中微公司再公布,1月29日至2月22日,累计获得政府补助款项共计2477.50万元。

公开资料显示,中微公司聚焦用于集成电路、LED芯片等微观器件领域的等离子体刻蚀设备、深硅刻蚀设备和MOCVD设备等关键设备的研发、生产和销售。目前,公司有多项CCP、ICP刻蚀设备研发正在全面展开,如“用于先进逻辑电路的CCP刻蚀设备(用于7nm以下制程)”、“14-7纳米ICP介质刻蚀机研发及产业化(双重/四重图形、模板刻蚀、边墙刻蚀、减薄刻蚀等工艺)”等。

2020年10月,中微公司宣布,拟向不超过35名符合中国证监会规定条件的特定投资者发行股份不超8022.93万股,预计募资100亿元,用于中微产业化基地建设、临港总部和研发中心项目以及科技储备资金。2021年2月5日,该公司提交了《2020年度向特定对象发行A股股票证券募集说明书(注册稿)》。

中微公司称,百亿融资的目的之一是“持续提升研发投入水平,进一步缩小与海外同行业巨头研发投入的差距”。该公司认为,国外领先的同行业可比公司均在研发上投入了大量资金,近年来主要可比公司年研发投入超过10亿美元,2019年公司研发投入为4.25亿人民币,与国外领先的半导体公司仍有较大差距;“建设中微临港总部和研发中心项目,将持续提升在技术研发方面的投入水平,进一步缩小与海外同行业巨头在研发方面的差距”。

值得一提的是,2月5日,中微公司曾收到上交所下发的监管工作函,但公告没有披露监管函更多内容。


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